TSMC планирует стартовать пробный выпуск чипов на субнанометровом процессе A10 до 2029 года

TSMC планирует стартовать пробный выпуск чипов на субнанометровом процессе A10 до 2029 года

3 hardware

Краткое резюме новостей о планах TSMC по расширению производства

ПунктЧто сообщено
Выручка от 3‑нм процессов в I квартале25 % от общей выручки компании, как отметил глава TSMC Си Си Вэй (C.C. Wei) на брифинге по финансовым результатам года.
Новые заводы с технологией 3 нмТайвань – новый объект в Южном научном парке, массовый выпуск запланирован на первую половину 2027 г.
США (Аризона) – второй завод тоже будет работать по 3 нм, запуск во вторую половину 2027 г.
Япония (Кумамото) – третий объект, старт производства в 2028 г.
Переоборудование существующего оборудованияНа Тайване оборудование для 5‑нм процессов будет модернизировано под 3 нм.

Детали по новым и расширяемым площадкам

Южный научный парк (Тайвань)

- Новый завод 3 нм – массовый выпуск в первой половине 2027 г.

Аризона, США

- Второй завод 3 нм – запуск во второй половину 2027 г.

Кумамото, Япония

- Третий завод 3 нм – планируется к 2028 г.


Планы по более продвинутым техпроцессам (2 нм и ниже)

ЛокацияЗаводыТехнологииСроки
Баошан, Тайвань (комплекс F20)P1, P2 – 2 нм; P3 – 2 нм и A14Строительство завершится в середине 2026 г.
Гаосюн, Тайвань (комплекс F22)P1, P2 – 2 нм; P3 – 2 нм/ A16; P4 – 2 нм/ A16Установка оборудования на P3 начнётся во II квартале 2026 г.; завершение строительства P4 – январь 2027 г.
Тайна, Тайвань (комплекс A10)P1–P4 – процессы < 1 нмОпытное производство стартует в 2029 г. с объёмом ~5000 пластин/месяц.
Аризона, США (F21)P1 – 4 нм; P2 – 3 нм (установка III квартал 2026 г.)Планы по 2 нм, A16 и A14 для P3‑P5.

*Всего планируется 11 заводов с мощностью от 20 000 до 25 000 пластин в месяц.*


Новые объекты: корпуса и упаковка

ОбъектТехнологияСроки
Первый современный завод по корпусамСтарт строительства второй половине 2026 г.; ввод в эксплуатацию к 2028 г.
Завод AP8 P1 (Тайна)CoWoSПланируется увеличение мощности до > 40 000 единиц/месяц к концу года.
Завод AP7 P1 (Чиайи)WMCM, обслуживает Apple
Завод AP6 (Чжунань)SoICЕжемесячная мощность 10 000 единиц.

Технология CoPoS

- Исследования и разработка: старт установки оборудования в III квартале 2026 г.; год на строительство опытной линии.
- Опытная линия: поставки оборудования к II кварталу 2028 г., проверка и доработка – около года.
- Серийное производство: заказы на оборудование планируется разместить к середине 2029 г.; поставки – в I квартал 2030 г.; готовая продукция появится, скорее всего, в IV квартале 2030 г.


Проект CoWoP (Nvidia + SPIL)

- Ведётся совместная работа с Nvidia и Siliconware Precision Industries.
- Возможны задержки из‑за высокой технической сложности и стоимости.
- Тайваньские производители печатных плат проявляют низкий интерес; проект в основном поддерживается китайскими компаниями.


Итог: TSMC активно расширяет производство, вводя новые объекты по 3 нм как на Тайване, так и за рубежом, а также планирует переход к более продвинутым техпроцессам (2 нм и ниже). Параллельно компания развивает линии для корпусов и упаковки, включая CoWoS и CoPoS, с ожидаемыми запусками в 2027‑2030 годах.

Комментарии (0)

Оставьте отзыв — пожалуйста, будьте вежливы и по теме.

Пока нет комментариев. Оставьте комментарий — поделитесь своим мнением!

Чтобы оставить комментарий, войдите в аккаунт.

Войти, чтобы комментировать