Китайские изготовители микросхем обратились к правительству с просьбой создать отечественную аналитику ASML.

Китайские лидеры полупроводниковой отрасли призывают к национальной координации развития EUV‑литографии (2026–2030)

В статье, опубликованной в рамках специального выпуска, высшие руководители крупнейших китайских компаний в сфере микропроизводства подали единый план действий. Цель – синхронизировать усилия по развитию литографических систем и тем самым повысить технологическую независимость страны.

Почему сейчас так важно

* Экспортные ограничения США (с 2020 г.) ограничивают доступ Китая к технологиям ниже 7 нм, делая EUV‑литографию критически важной.
* ASML – единственный в мире поставщик машин для EUV-литографии. Оборудование состоит из 100 000 компонентов от 5 000 поставщиков; ASML лишь собирает их.
* Внутренние прорывы: Китай добился значительных успехов в отдельных областях (EUV‑лазеры, изготовление кремниевых пластин, оптические системы), но интеграция этих технологий остаётся сложной задачей.

Ключевые направления работы

1. Создание единой платформы для исследования и разработки передовых устройств и компонентов.
2. Развитие программного обеспечения для автоматизации проектирования электроники.
3. Усиление материаловедения: производство высококачественных кремниевых пластин и газов, необходимых для EUV‑литографии.
4. Налаживание национальной координации в рамках пятилетнего плана (15‑й пятилетка).

Оценка текущего положения

* Китай занимает около 33 % мирового рынка микропроизводства на зрелых техпроцессах (28 нм и выше).
* В этих сегментах страна имеет значительный потенциал как в проектировании, так и в производстве.

В итоге эксперты требуют от правительства срочно разработать планы реализации интеграции всех ключевых компонентов EUV‑литографии. Это позволит создать собственную «ASML» и обеспечить независимость Китая в критически важных технологиях микропроизводства.